[发明专利]制作光学元件成形模子的方法以及光学元件成形模子有效
| 申请号： | 201180026372.6 | 申请日： | 2011-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN102933512A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 久保裕之;桥本茂;平林敬二;寺西康治;大胁悠介 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C03B11/08 | 分类号： | C03B11/08;C23C16/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 欧阳帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种制作光学元件成形模子的方法，该方法包括通过FCVA工艺在用于光学元件成形模子的模子基体10上形成ta-C膜12，在其中模子基体10被保持在浮置电位，电压被施加到用于经由绝缘部件（3a,3b）保持模子基体的模子基体保持部件2，并且在模子基体中内部设置的磁体4形成用于在模子基体的转印表面的法线方向上施加磁力以使得遵循由过滤线圈22施加的磁力的磁场，由此使膜质量均质化。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 光学 元件 成形 模子 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种制作光学元件成形模子的方法，所述光学元件成形模子用于使光学元件压制成形，所述方法包括如下步骤：在将用于光学元件成形模子的模子基体保持在浮置电位时在成膜室中布置模子基体；在相对于模子基体的成膜表面的法线方向上形成磁场；以及在将电压施加到用于保持模子基体的保持部件时，通过使用过滤阴极真空电弧工艺在模子基体的成膜表面上形成四面体非晶碳膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180026372.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
