[发明专利]端块和溅射装置有效
| 申请号： | 201180026580.6 | 申请日： | 2011-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN103119191A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 法兰克·施纳朋伯格 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01J37/34;F16C19/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了端块(100，101)和包括该端块(100，101)的沉积设备(200)。端块(100，101)包括适于以非旋转方式连接到沉积设备(200)的基体(110)。端块(100，101)还包括绕基体(110)布置的旋转轴承(140，141)，以及绕旋转轴承(140，141)布置并适于接收可旋转靶(10)的转子(120)。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种端块(100，101)，其用于承载沉积设备(200)的可旋转靶(10)，包括：基体(110)，其适于刚性地连接到所述沉积设备(200)的非回转部分(230、231)，所述基体(110)包括圆筒腔(113)；冷却剂管(114)，其共轴地插入到所述圆筒腔(113)内；至少一个旋转轴承(140、141)，其绕基体(110)布置并界定了旋转轴线(50)；以及转子(120)，其适于接收所述可旋转靶(10)并绕所述至少一个旋转轴承(140、141)布置，其中，所述圆筒腔(113)与所述旋转轴线(50)共轴地布置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180026580.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于MOCVD设备的进料设备
- 下一篇：用于调节代谢的组合物和方法
- 同类专利
- 专利分类
