[发明专利]成膜速度快的电弧式蒸发源、使用该电弧式蒸发源的皮膜的制造方法及成膜装置

摘要

提供一种成膜速度快的电弧式蒸发源。本发明的电弧式蒸发源(1)具备：至少一个外周磁铁(3)，其包围标靶(2)的外周，并且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向；非环状的第一永磁铁(4A)，其配置于标靶(2)的背面侧，具有与所述外周磁铁(3)的极性同方向极性且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向；非环状的第二永磁铁(4B)，其在与所述第一永磁铁(4A)隔开间隔的状态下，配置于第一永磁铁(4A)与标靶(2)之间、或配置于第一永磁铁(4A)的背面侧，具有与所述外周磁铁(3)的极性同方向的极性并且被配置成其磁化方向沿着与标靶(2)的表面正交的方向；以及磁性体(5)，其配置在第一永磁铁(4A)与第二永磁铁(4B)之间。

主权项

一种电弧式蒸发源，其通过在标靶的表面产生电弧放电，从而用于使所述标靶熔化，其中，该电弧式蒸发源具备：至少一个外周磁铁，其包围所述标靶的外周，并且被配置成其磁化方向沿着与所述标靶的表面正交的方向；非环状的第一永磁铁，其配置于所述标靶的背面侧，具有与所述外周磁铁的极性同方向的极性，并且被配置成其磁化方向沿着与所述标靶的表面正交的方向；非环状的第二永磁铁，其在与所述第一永磁铁隔开间隔的状态下，被配置于所述第一永磁铁和所述标靶之间、或被配置于所述第一永磁铁的背面侧，并具有与所述外周磁铁的极性同方向的极性，并且被配置成其磁化方向沿着与所述标靶的表面正交的方向；以及磁性体，其被配置在所述第一永磁铁和所述第二永磁铁之间。