[发明专利]用于形成溅射材料层的系统和方法有效
申请号: | 201180027703.8 | 申请日: | 2011-07-22 |
公开(公告)号: | CN102934197A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 马库斯·班德尔;马卡斯·哈尼卡;伊夫林·希尔;法毕奥·皮拉里斯;盖德·曼克;拉尔夫·林德伯格;安德里亚斯·鲁普;科拉德·施沃恩特兹;刘健 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01J37/34 | 分类号: | H01J37/34 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 王安武 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本公开描述了一种涂覆衬底(110)的方法,所述方法包括在衬底(110)上形成溅射材料层(806)的步骤。形成溅射材料层的步骤可以包括以下步骤:将来自至少一个可旋转靶材(120’)的材料溅射在衬底(110)上;以及改变至少一个可旋转靶材(120’)与衬底(110)之间的相对位置。此外,本公开描述了在溅射工艺期间改变靶材(120;120’;120”)与衬底之间的距离。本公开还描述了用于涂覆衬底的系统。 | ||
搜索关键词: | 用于 形成 溅射 材料 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种涂覆衬底(110)的方法,所述方法包括以下步骤:在所述衬底(110)上形成溅射材料层(806),其中形成所述溅射材料层的步骤包括以下步骤:将来自至少一个可旋转靶材(120’)的材料溅射在所述衬底(110)上;以及改变所述至少一个可旋转靶材(120’)与所述衬底(110)之间的相对位置。
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