[发明专利]光学系统有效
| 申请号： | 201180029301.1 | 申请日： | 2011-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN102939567A | 公开（公告）日： | 2013-02-20 |
| 发明（设计）人： | D.H.埃姆;M.韦斯;C.扎克泽克;T.哈克尔;W.塞茨 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 吴艳 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 为了在用EUV辐射（4）照射用于EUV光刻的反射光学元件（2）时，防止该反射光学元件带电，提出了一种用于EUV光刻的光学系统，该光学系统包含：反射光学元件（2），其包括具有高反射涂层（22）的基底（21），在用EUV辐射（4）照射该基底时，该基底发出二次电子；以及带电粒子的源（3），其布置为使得能够将带电粒子施加于反射光学元件（2），其中源（3）为浸没电子枪，其将电子施加至反射光学元件（2），作为用于载流子补偿的唯一手段。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 | ||
【主权项】：
一种用于EUV光刻的光学系统，其包含：反射光学元件，该反射光学元件包括基底，该基底具有高反射涂层，在用EUV辐射照射该基底时，该基底发出二次电子；以及带电粒子的源（3），其布置为使得能够将带电粒子施加于所述反射光学元件（2），其中所述源（3）为浸没电子枪，其将电子施加至所述反射光学元件（2），作为用于载流子补偿的唯一手段。
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