[发明专利]嵌段共聚物的制造方法和共聚物前体有效

专利信息
申请号: 201180030305.1 申请日: 2011-06-28
公开(公告)号: CN102958965A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 新谷武士;三岛豪;立石祐一;冈户俊明 申请(专利权)人: 日本曹达株式会社
主分类号: C08F297/02 分类号: C08F297/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 金世煜;苗堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于提供一种适用于颜料分散剂等的新型共聚物的制造方法。本发明的制造方法是使用共聚物前体并对其进行加热来制造嵌段共聚物的方法,上述共聚物前体包含嵌段链(A)和嵌段链(B),上述嵌段链(A)包含选自含有叔氨基的重复单元和含有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元,上述嵌段链(B)包含式(I)表示的含有被保护的酸性基团的重复单元和式(II)表示的重复单元,上述嵌段共聚物包含嵌段链(A)和嵌段链(B1),上述嵌段链(B1)包含式(III)表示的含有酸性基团的重复单元和式(II)表示的重复单元。
搜索关键词: 共聚物 制造 方法
【主权项】:
1.一种嵌段共聚物的制造方法,该嵌段共聚物包含嵌段链(A)和嵌段链(B1),所述嵌段链(B1)包含式(III)表示的含有酸性基团的重复单元和式(II)表示的重复单元,式(II)表示的重复单元的共聚比例在嵌段链(B1)中为90质量%以上,该制造方法的特征在于,对下述共聚物前体进行加热,所述共聚物前体包含嵌段链(A)和嵌段链(B),所述嵌段链(A)包含选自含有叔氨基的重复单元和含有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元,所述嵌段链(B)包含式(I)表示的含有被保护的酸性基团的重复单元和式(II)表示的重复单元,式(II)表示的重复单元的共聚比例在嵌段链(B)中为90质量%以上,式(I)中,R1、R2、R3各自独立地表示氢原子或C1~C3烷基,X表示单键或选自C1~C10亚烷基、-C(=O)OR1a-、-C(=O)NHR1a-、-OC(=O)R1a-以及-R2a-OC(=O)-R1a-中的基团,其中,R1a、R2a各自独立地表示C1~C10亚烷基或C1~C10亚烷基-O-C1~C10亚烷基,R4表示氢原子、C1~C6烷基、C6~C10芳基C1~C6烷基或C6~C10芳基,R5表示C1~C6烷基、C6~C10芳基C1~C6烷基或C6~C10芳基,式(II)中,R6、R7、R8各自独立地表示氢原子或C1~C3烷基,R9表示脂肪族烃基或脂环式烃基,式(III)中,R1、R2、R3、X表示与式(I)相同的含义。
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