[发明专利]活性种供给装置以及表面等处理装置有效
| 申请号： | 201180031920.4 | 申请日： | 2011-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN103120030A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 堀胜;加纳浩之;森一明;中根伸幸;渡边智弘;五十褄丈二 | 申请（专利权）人： | 富士机械制造株式会社;国立大学法人名古屋大学 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;B01J19/08;B08B7/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 穆德骏;谢丽娜 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在电极与工件之间难以产生放电。关于设于放电空间（42B）与等离子体输出口（16）之间的作为等离子体流出通路的构成要素的单独通路（81B），由X部分（81BX）、Z部分（81BZ）的比连接X部分（81BXX）的连接部（M）更靠放电空间侧的部分（81BZ0）、X部分（81BXX）、扩散器（82B）、狭缝（86）等构成主通路，由Z方向部分（81BZ）的比连接部（M）更靠与放电空间相反一侧的部分（81BZP）构成分支通路。接地板（90）以堵塞分支通路（81BZP）的状态设置。由于分支通路（81BZP）与主通路的部分（81BZ0）位于同一直线上，所以在与接地板（90）之间能够产生放电，而在与工件（W）之间难以产生放电。 | ||
| 搜索关键词： | 活性 供给 装置 以及 表面 处理 | ||
【主权项】：
一种活性种供给装置，对由至少一对电极形成的放电空间供给处理气体，至少将在等离子体内生成的活性种从活性种输出口提供给被处理物，其特征在于，包含：活性种流出通路，设于所述放电空间与所述活性种输出口之间；以及接地部件，设于该活性种流出通路的从所述活性种输出口离开设定距离的部分。
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