[发明专利]用于晶片检查或度量设置的数据扰乱有效

专利信息
申请号: 201180032278.1 申请日: 2011-06-09
公开(公告)号: CN102985887A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: G·萨泰森达拉姆;M·马哈德万;A·古普塔;C-H·A·陈;A·库卡尼;J·柯克伍德;K·吴;S·荣 申请(专利权)人: 克拉-坦科股份有限公司
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 钱慰民
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了用于确定晶片检查和/或度量的参数的各个实施例。
搜索关键词: 用于 晶片 检查 度量 设置 数据 扰乱
【主权项】:
一种用于确定晶片处理的一个或多个参数的计算机实现的方法,包括:产生一次或多次第一晶片扫描的性能与一次或多次第二晶片扫描的性能之间的差异的模型;使用所述一次或多次第一晶片扫描来产生对于晶片的结果;使用所述结果和模型来产生晶片的经扰乱的结果,其中所述经扰乱的结果近似于通过所述一次或多次第二晶片扫描产生的对所述晶片的结果;以及基于所述经扰乱的结果确定所述晶片处理的一个或多个参数,其中所述晶片处理包括执行一次或多次第二晶片扫描,并且所述方法的步骤是由计算机系统执行的。
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