[发明专利]线性批量化学气相沉积系统

摘要

在此描述了一种线性批量CVD系统，该系统包括一个沉积室、一个或多个基底托架、多个气体喷射器以及一个加热系统。每个基底托架都置于该沉积室中并且具有至少一个被配置成接收一个基底的接收座。这些基底托架被配置成将多个基底以一个线性配置的方式保持。每个气体喷射器都包括一个端口，该端口被配置成横过一个或多个这些基底以一种均匀分布的方式来供应一种气体。该加热系统包括至少一个加热元件和用于均匀地控制这些基底的温度的一个加热控制模块。这个系统适用于对多个基底的高容量CVD处理。这个沉积室的窄宽度使前驱气体在这些基底上沿该反应室的长度能够均匀地分布，并且与常规的沉积室相比，允许对更多数量的基底进行处理。

主权项

一种线性批量化学气相沉积(CVD)系统，包括：一个沉积室；至少一个基底托架，该基底托架被置于该沉积室中并且具有至少一个被配置成接收一个基底的接收座，这些基底托架被配置成将多个基底以一个线性配置的方式保持；多个气体喷射器，这些气体喷射器各自包括一个端口，该端口被配置成横过一个或多个这些基底以均匀分布的方式来供应一种气体；以及一个加热系统，该加热系统包括至少一个加热元件和用于均匀地控制这些基底的温度的一个加热控制模块。