[发明专利]通过电弧涂布基材的方法无效
| 申请号： | 201180034464.9 | 申请日： | 2011-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN103003466A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | O·凯赛 | 申请（专利权）人： | 三斯特根股份有限公司;洪埃德科股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C25B11/04 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 王凤桐;周建秋 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在低压电弧蒸发的情况下用于在真空室（10）中通过电弧涂布基材的方法和蒸发器（12，14，62，64，66，68），其中，所述真空室（10）具有至少一个含有标靶材料（20）的蒸发器（12，14，62，64，66，68）、用于供应反应性气体的反应性气体供应管线（53，54）和真空泵，其中，含有标靶材料（20）的所述蒸发器（12，14，62，64，66，68）用作阴极，而真空室（10）的内壁（36）用作阳极，在所述蒸发器（12，14，62，64，66，68）和所述真空室（10）的内壁（36）之间产生电弧。根据本发明，高熔融金属用作标靶材料（20），用于催化，并且在涂布期间真空室（20）中的压力为至少0.5Pa，特别是至少3Pa，优选5Pa。在基材上形成具有高氧含量的催化活性金属层。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 电弧 基材 方法 | ||
【主权项】：
一种在低压电弧蒸发下在真空室（10）中通过电弧涂布基材的方法，所述真空室（10）具有至少一个含有标靶材料（20）的蒸发器（12，14，62，64，66，68）、用于供应反应性气体的反应性气体供应装置（53，54）和真空泵，其中，含有所述标靶材料（20）的所述蒸发器（12，14，62，64，66，68）用作阴极，而所述真空室（10）的内壁（36）用作阳极，在所述蒸发器（12，14，62，64，66，68）和所述真空室（10）的内壁（36）之间产生电弧，其特征在于，高熔点金属用作标靶材料（20），用于电活性表面和/或用于催化，并且在涂布期间真空室（10）中的压力为至少0.5Pa，特别是至少3Pa，优选5Pa，并且在基材上形成具有高氧含量的电活性金属层和/或具有高氧含量的催化活性金属层。
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