[发明专利]配位化合物以及含有其的光记录介质有效
申请号: | 201180034670.X | 申请日: | 2011-07-12 |
公开(公告)号: | CN103003243A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 泽田贵弘;折见崇行;冲村尚志;宫崎常昭;森山聪 | 申请(专利权)人: | KH新化株式会社 |
主分类号: | C07D213/85 | 分类号: | C07D213/85;C07D401/12;C07D413/12;C07D413/14;C09B55/00;C09B57/10;G11B7/244 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 金龙河;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供具有优良的耐湿热性等、且用于光记录介质的配位化合物,其由下述式(I)所示的化合物、金属、和选自由通过在胺上加上一个以上质子而形成的离子、铵离子以及季铵离子组成的组中的一种构成,式(I)中,R1表示可具有取代基的烷基等,R2表示氰基等,R3表示可具有取代基的烷基等,R4表示氢原子等,R5表示式(III)等,式(III)中,环A表示可具有取代基的杂环,该杂环选自嘧啶环、四唑环等。 | ||
搜索关键词: | 化合物 以及 含有 记录 介质 | ||
【主权项】:
1.一种配位化合物,其由式(I)所示的化合物、金属、和选自由通过在胺上加上一个以上质子而形成的离子、铵离子以及季铵离子组成的组中的一种构成,式中,R1以及R4相同或不同,表示氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,R2表示氢原子、羟基、卤原子、硝基、氰基、可具有取代基的氨基、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的烷氧基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,R3表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,R5表示式(II)或式(III),式中,R6表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,式中,环A表示可具有取代基的杂环,该杂环选自由嘧啶环、四唑环、三唑环、咪唑环、苯并咪唑环、噻唑环、苯并噻唑环、唑环、苯并唑环、吡啶环、哒嗪环、酞嗪环以及喹唑啉环组成的组。
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