[发明专利]三维存储器及形成所述三维存储器的方法有效
申请号: | 201180037212.1 | 申请日: | 2011-06-24 |
公开(公告)号: | CN103038882B | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | 山·D·唐;约翰·K·查胡瑞 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8247 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 宋献涛 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一些实施例包含一种存储器装置及形成所述存储器装置的方法。一个此种存储器装置包含存储器单元的第一群组,所述第一群组的所述存储器单元中的每一者形成于位于所述存储器装置的一个装置层级中的第一控制栅极的腔中。所述存储器装置还包含存储器单元的第二群组,所述第二群组的所述存储器单元中的每一者形成于位于所述存储器装置的另一装置层级中的第二控制栅极的腔中。本发明还描述额外设备及方法。 | ||
搜索关键词: | 三维 存储器 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种存储器,其包括:第一存储器单元,其位于存储器装置的第一装置层级中;第二存储器单元,其位于所述存储器装置的第二装置层级中;第一控制栅极,其形成于所述第一装置层级中,所述第一控制栅极用以控制对所述第一存储器单元的存取,其中所述第一存储器单元中的每一者包含形成于所述第一控制栅极的腔中的存储器元件,且所述第一控制栅极的所述腔通过所述第一控制栅极的一部分的侧壁、位于所述第一控制栅极的第一侧上的电介质材料、以及位于所述第一控制栅极的第二侧上且与所述第一控制栅极的所述第一侧上的所述电介质材料相对的另一电介质材料所形成;及第二控制栅极,其形成于所述第二装置层级中,所述第二控制栅极用以控制对所述第二存储器单元的存取,其中所述第二存储器单元中的每一者包含形成于所述第二控制栅极的腔中的存储器元件,且所述第二控制栅极的所述腔通过所述第二控制栅极的一部分的侧壁、位于所述第二控制栅极的第一侧上的电介质材料、以及位于所述第二控制栅极的第二侧上且与所述第二控制栅极的所述第一侧的所述电介质材料相对的另一电介质材料所形成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的