[发明专利]静电吸盘无效
| 申请号： | 201180037269.1 | 申请日： | 2011-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN103038874A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 石川佳津子;米澤顺治;青岛利裕;林田义秀 | 申请（专利权）人： | TOTO株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;B23Q3/15 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 周善来;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种静电吸盘，是具备电介体基板的静电吸盘，该电介体基板具有：突起部，形成在载放被吸附物侧的主面上；及平面部，形成在所述突起部的周围，其特征在于，所述电介体基板由多晶陶瓷烧结体形成，所述突起部的顶面为曲面，在所述顶面上形成有第1凹部，所述平面部具有平坦部，在所述平坦部上形成有第2凹部，所述第1凹部的深度尺寸比所述第2凹部的深度尺寸大。可抑制产生颗粒，同时容易使静电吸盘表面的清洁状态恢复。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
一种静电吸盘，是具备电介体基板的静电吸盘，该电介体基板具有：突起部，形成在载放被吸附物侧的主面上；及平面部，形成在所述突起部的周围，其特征在于，所述电介体基板由多晶陶瓷烧结体形成，所述突起部的顶面为曲面，在所述顶面上与露出在表面上的晶粒相对应地形成有第1凹部，所述平面部具有平坦部，在所述平坦部上形成有第2凹部，所述第1凹部的深度尺寸比所述第2凹部的深度尺寸大。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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