[发明专利]含水碱性蚀刻和清洁组合物以及处理硅基材表面的方法

摘要

本发明涉及一种用于处理硅基材表面的含水碱性蚀刻和清洁组合物，所述组合物含有：(A)至少一种季铵氢氧化物；和(B)至少一种选自通式（I）至（V）的水溶性酸以及它们的水溶性盐：(R1-SO3-)nXn+(I),R-PO32-(Xn+)3-n(II),(RO-SO3-)nXn+(III),RO-PO32-(Xn+)3-n(IV)，和[(RO)2PO2-]nXn+(V)；其中n=1或2；X是选自氢或碱金属或碱土金属；R1是烯属不饱和的脂族或脂环族结构部分；R是R1或烷基芳基结构部分；涉及所述组合物用于处理硅基材的用途，处理硅基材表面的方法，以及制造能在暴露于电磁辐射时发电的装置的方法。

主权项

一种含水碱性蚀刻和清洁组合物，所述组合物含有：(A)至少一种季铵氢氧化物；和(B)至少一种选自以下的组分：(b1)通式I的水溶性磺酸以及它们的水溶性盐：(R1‑SO3‑)nXn+    (I),(b2)通式II的水溶性膦酸以及它们的水溶性盐：R‑PO32‑(Xn+)3‑n     (II),(b3)通式III的水溶性硫酸酯以及它们的水溶性盐：(RO‑SO3‑)nXn+      (III),(b4)通式(IV)的水溶性磷酸酯以及它们的水溶性盐：RO‑PO32‑(Xn+)3‑n     (IV)，和(b5)通式(V)的水溶性磷酸酯以及它们的水溶性盐：[(RO)2PO2‑]nXn+      (V)；其中指数n=1或2；X是选自氢、碱金属和碱土金属；R1是选自具有2‑5个碳原子和至少一个烯属不饱和双键的脂族结构部分，以及具有4‑6个碳原子和至少一个烯属不饱和双键的脂环族结构部分；R是选自具有2‑5个碳原子和至少一个烯属不饱和双键的脂族结构部分，具有4‑6个碳原子和至少一个烯属不饱和双键的脂环族结构部分，以及烷基芳基结构部分，其中芳基结构部分是选自苯和萘，烷基结构部分是选自亚甲基、乙烷‑二基和丙烷‑二基，并且在通式II中的磷原子直接键连至脂族碳原子上，在通式III中的硫原子和在通式IV和V中的磷原子各自经由氧原子键连至脂族碳原子上。