[发明专利]深紫外发光二极管有效

专利信息
申请号: 201180037699.3 申请日: 2011-06-17
公开(公告)号: CN103038900A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: R·格斯卡;M·S·沙特洛娃;M·舒尔 申请(专利权)人: 传感器电子技术股份有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 侯海燕
地址: 美国南*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供深紫外发光二极管,该发光二极管包含n型接触层和与n型接触层相邻的光产生结构。光产生结构包含量子阱组。接触层和光产生结构可被配置为使得n型接触层的能量与量子阱的电子基态能量之间的差值大于光产生结构的材料中的极性光学声子的能量。另外,光产生结构可被配置为使得其宽度与用于通过注入到光产生结构中的电子发射极性光学声子的平均自由程相当。二极管可包含阻挡层,该阻挡层被配置为使得阻挡层的能量与量子阱的电子基态能量之间的差值大于光产生结构的材料中的极性光学声子的能量。二极管可包含复合接触,该复合接触包含至少部分地对于由光产生结构产生的光透明的粘接层和被配置为反射由光产生结构产生的光的至少一部分的反射金属层。
搜索关键词: 深紫 发光二极管
【主权项】:
一种发光异质结构,包括:n型接触层;和具有与n型接触层相邻的第一侧的光产生结构,该光产生结构包含量子阱组,其中,n型接触层的能量与量子阱组中的量子阱的电子基态能量之间的差值大于光产生结构的材料中的极性光学声子的能量,并且其中,光产生结构的宽度与用于通过注入到光产生结构中的电子发射极性光学声子的平均自由程相当。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于传感器电子技术股份有限公司,未经传感器电子技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180037699.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top