[发明专利]磁阻效应元件以及磁性随机存取存储器有效
申请号: | 201180039960.3 | 申请日: | 2011-09-16 |
公开(公告)号: | CN103069564A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 中山昌彦;与田博明;岸达也;小濑木淳一;甲斐正;相川尚德;池川纯夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L21/8246 | 分类号: | H01L21/8246;G11C11/15;H01L27/105;H01L29/82;H01L43/08 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 杨谦;房永峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的磁阻效应元件具备:第1铁磁性层(12),磁化相对于膜面大致垂直且可变;第2铁磁性层(16),磁化相对于膜面大致垂直且不变;第1非磁性层(14),设于第1铁磁性层与第2铁磁性层之间;第3铁磁性层(20),设于相对于第2铁磁性层的与第1非磁性层的相反侧,具有与膜面大致平行的磁化,通过注入被自旋极化后的电子来产生旋转磁场;以及第2非磁性层(18),设于第2铁磁性层与第3铁磁性层之间,使第1电流沿着从第3铁磁性层经由第2铁磁性层朝向第1铁磁性层的方向以及从第1铁磁性层经由第2铁磁性层朝向第3铁磁性层的方向中的一个方向流过,由此,通过由第3铁磁性层产生的旋转磁场,第1铁磁性层的磁化能够反转,并使具有与第1电流不同的电流密度的第2电流向一个方向流过,借助于通过第2铁磁性层被自旋极化后的电子,第1铁磁性层的磁化能够向与流过第1电流的情况不同的方向反转。 | ||
搜索关键词: | 磁阻 效应 元件 以及 磁性 随机存取存储器 | ||
【主权项】:
一种磁阻效应元件,其特征在于,具备:第1铁磁性层,磁化相对于膜面大致垂直且可变;第2铁磁性层,磁化相对于膜面大致垂直且不变;第1非磁性层,设于上述第1铁磁性层与上述第2铁磁性层之间;第3铁磁性层,设于相对于上述第2铁磁性层的与上述第1非磁性层相反一侧,具有与膜面大致平行的磁化,通过注入被自旋极化后的电子来产生旋转磁场;以及第2非磁性层,设于上述第2铁磁性层与上述第3铁磁性层之间,使第1电流向沿着从上述第3铁磁性层经由上述第2铁磁性层朝向上述第1铁磁性层的方向以及从上述第1铁磁性层经由上述第2铁磁性层朝向上述第3铁磁性层的方向中的一个方向流动,由此,通过由上述第3铁磁性层产生的上述旋转磁场,上述第1铁磁性层的磁化能够反转,使具有与上述第1电流不同的电流密度的第2电流向上述一个方向流动,借助于通过上述第2铁磁性层而被自旋极化后的电子,上述第1铁磁性层的磁化能够向与流过上述第1电流的情况不同的方向反转。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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