[发明专利]成像光学系统有效
| 申请号： | 201180040678.7 | 申请日： | 2011-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN103080841A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | R.米勒;H-J.曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于EUV投射光刻的成像光学系统（12）具有多个反射镜（M1-M4），用于将物平面（5）中的物场（4）成像至像平面（14）中的像场（13）。成像光学系统的像侧数值孔径至少为0.3。成像光学系统具有大于0.40的瞳遮蔽。成像光学系统的像场尺寸至少为1mm x 10mm。利用该成像光学系统，可以高成像质量将物成像。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 | ||
【主权项】：
一种用于EUV投射光刻的成像光学系统（12；39；43），具有多个反射镜（M1‑M4、M1‑M6），将物平面（5）中的物场（4）成像至像平面（14）中的像场（13），具有至少为0.3的像侧数值孔径，具有大于0.40的瞳遮蔽，其特征在于像场尺寸至少为1mm x10mm。
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