[发明专利]近场平版印刷掩模及其制造

摘要

公开了制造形成纳米图案的滚筒光掩模的方法。具有大小范围为从约1纳米至约100微米的形貌的底版图案可在底版基底上形成。弹性体材料层可在透明滚筒的表面上形成。底版图案可从底版转印至所述透明滚筒表面上的弹性体材料层。可选地，形成纳米图案的滚筒光掩模可通过在弹性体基底上形成具有纳米级形貌的图案并且将形成图案的弹性体基底层压至滚筒的表面而形成。在另一方法中，弹性体材料层可在透明滚筒的表面上形成并且具有纳米级形貌的图案可在弹性体材料上通过直接形成图案方法形成。

主权项

用于形成纳米图案的滚筒光掩模的方法，包括：在底版基底上形成底版图案，其中所述底版图案包括大小范围为从约1纳米至约100微米的形貌；在透明滚筒的表面上形成弹性体材料层；将所述底版图案从所述底版转印至在所述滚筒表面上的所述弹性体材料层。