[发明专利]损耗调制式硅倏逝波激光器有效

专利信息
申请号: 201180041417.7 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN103119804A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 约翰·E·鲍尔斯;戴道鑫 申请(专利权)人: 加利福尼亚大学董事会
主分类号: H01S3/04 分类号: H01S3/04
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 张梅珍;陈桂香
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种损耗调制式硅倏逝波激光器。根据本发明一个或多个实施例的损耗调制式半导体激光器件包括:驻留在第一衬底上的绝缘体上半导体(SOI)结构,该SOI结构包括位于SOI结构的半导体层中的波导;和与该SOI结构的半导体层键合的半导体结构,其中该SOI结构的半导体层中的至少一个区域控制半导体激光器件中的光子寿命。
搜索关键词: 损耗 调制 式硅倏逝波 激光器
【主权项】:
一种损耗调制式半导体激光器件,包括:位于第一衬底上的绝缘体上半导体(SOI)结构,所述SOI结构包括位于所述SOI结构的半导体层中的波导;和与所述SOI结构的所述半导体层键合的半导体结构,其中所述SOI结构的所述半导体层中的至少一个区域控制所述半导体激光器件中的光子寿命。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于加利福尼亚大学董事会,未经加利福尼亚大学董事会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180041417.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top