[发明专利]利用改善的采样的微分相位对比成像有效
| 申请号： | 201180041580.3 | 申请日： | 2011-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN103079469A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | T·克勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;G01N23/04;G01N23/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及对象的微分相位对比成像。为了增加X射线成像系统（2）的空间分辨率，探测器像素元件（8）的大小可以被认为是限制因素。相应地，增加用于相位对比成像的设备（38）的分辨率，而无需进一步降低个体像素元件（8）的面积。相应地，提供了利用改善的采样的相位对比成像的设备（38），其包括X射线源（4）、第一格栅元件G1（24）、第二格栅G2（26）以及包括多个探测器像素元件（8）的X射线探测器元件（6），每个探测器像素元件（8）具有像素面积A。待成像的对象（14）能够被布置在X射线源（4）与X射线探测器元件（6）之间。X射线源（4）、第一格栅元件G1（24）、第二格栅元件G2（26）和X射线探测器（6）能操作地耦合以用于对象（14）的相位对比图像的采集。第一格栅元件G1（24）和第二格栅元件G2（26）中的至少一个包括具有第一格栅跨度p1的第一面积A1和具有与第一格栅跨度不同的第二格栅跨度p2的第二面积A2。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 改善 采样 微分 相位 对比 成像 | ||
【主权项】：
一种用于相位对比成像的格栅装置（40），包括：第一格栅元件G1（24）；第二格栅元件G2（26）；并且其中，所述第一格栅元件（24）和所述第二格栅元件（26）中的至少一个包括：具有第一格栅跨度p1、q1的第一面积A1，以及具有与所述第一格栅跨度p1、q1不同的第二格栅跨度p2、q2的第二面积A2。
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