[发明专利]装置和方法

摘要

本发明涉及用于根据原子层沉积方法的原理通过使基体（2）的表面（4）与至少第一起始材料（A）和第二起始材料（B）交替发生表面反应而处理基体（2）的表面（4）的装置和方法。根据本发明，通过相对于基体（2）移动源（6,7,8），将第一起始材料（A）局部地供给至基体（2）的表面（4），并且被第一起始材料（A）处理的基体（2）的表面（4）暴露于源（6,7,8）周围的气氛（1）中的第二起始材料（B）。

主权项

一种根据原子层沉积方法的原理通过使基体（2）的表面（4）与至少第一起始材料（A）和第二起始材料（B）交替发生表面反应来处理所述基体（2）的所述表面（4）的装置，其特征在于，所述装置包括一个或多个源（6,7,8），所述一个或多个源（6,7,8）用于将第一起始材料（A）局部地供给至所述基体（2）的所述表面（4），并且所述源（6,7,8）定位在气氛（1）中，所述气氛（1）包括第二起始材料（B）。