[发明专利]从气体中去除F2和/或OF2的方法

摘要

在此描述了一种用于从气体中去除F2和/或OF2的方法，其中将一种包括F2和/或OF2任选地还包含HF的气体与一种液体进行接触，该液体包括一种碱以及一种溶解的硫代硫酸盐或碱金属亚硝酸盐、优选对应的钠化合物。优选的碱是碱金属氢氧化物以及碱金属碳酸盐、特别是对应的钾化合物。该方法特别适合用于处理来自其中使用或形成F2的工业过程的气体，例如在从制造半导体、光电池或TFT中产生的气体中。它可以例如用于从紧急情况、从F2生产的起始阶段产生的包括F2的气体、用于来自半导体蚀刻设备的废气(包括腔室清洁废气)并且用于包括规格外F2的气体。该方法允许了在处理过的气体中不形成显著量的OF2下去除F2。

主权项

一种用于获得具有降低含量的F2和/或OF2以及，如果在有待处理的气体中存在的话，降低含量的HF的气体的方法，该方法包括至少一个步骤，该步骤是从包含F2和/或OF2以及任选的HF的气体中去除F2和/或OF2，其中将该气体与液体组合物进行接触，该液体组合物包含溶解的碱金属硫代硫酸盐和/或溶解的碱金属亚硝酸盐、以及至少一种选自碱金属氢氧化物以及碱金属碳酸盐中的溶解的碱。