[发明专利]根据算法和规格的自动最佳集成电路生成器无效

专利信息
申请号: 201180044093.2 申请日: 2011-07-11
公开(公告)号: CN103098059A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 萨蒂许·帕德马纳班;皮尔斯·吴;阿南德·潘德伦根;瑟雷许·凯迪耶拉;阿南斯·朵巴;泰克·席基哈拉 申请(专利权)人: 艾尔葛托奇普股份有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 公开了基于算法过程作为输入并且使用几乎不需要人为参与的高度自动化工具的定制集成电路的自动设计。该方法包括:接收所述定制集成电路的规格,其中所述规格包括计算机可读代码以及针对所述定制集成电路的制约;生成针对所述计算机可读代码的最适合所述制约的计算机架构;基于代码评测数据来自动确定指令执行序列,并且重新分配或延迟所述指令序列以使操作分散到一个或多个处理块从而减少热点;连续地评价和优化一个或多个因素,其中所述因素包括物理实现以及寄存器传输级即RTL或门控层级综合以上的架构层级的局部和全局面积、定时或功率;以及自动综合所设计的架构并且生成半导体制造所用的所述定制集成电路的计算机可读描述。
搜索关键词: 根据 算法 规格 自动 最佳 集成电路 生成器
【主权项】:
一种用于自动设计定制集成电路的方法,包括:a.接收所述定制集成电路的规格,其中所述规格包括计算机可读代码以及针对所述定制集成电路的一个或多个制约;b.自动生成针对所述计算机可读代码的最适合所述制约的计算机架构;c.基于代码评测数据来自动确定指令执行序列,并且重新分配或延迟所述指令序列以使操作分散到一个或多个处理块从而减少热点;d.连续地评价和优化一个或多个因素,其中所述因素包括物理实现以及寄存器传输级即RTL或门控层级综合以上的架构层级的局部和全局面积、定时或功率;e.自动生成用以在所述定制集成电路上自动执行所述计算机可读代码的软件开发工具包即SDK和相关联的固件;f.针对所述定制集成电路上的所述计算机可读代码来自动生成相关联的测试套件和向量;以及g.自动综合所设计的架构并且生成半导体制造所用的所述定制集成电路的计算机可读描述。
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