[发明专利]用于从基底上去除物质的方法和组合物无效
| 申请号： | 201180046573.2 | 申请日： | 2011-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN103108945A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | M.W.奎伦;D.E.奥德尔;Z.P.李;J.C.穆尔;S.E.霍赫斯特特勒;R.D.彼得斯;R.S.阿门特罗特;D.W.马克;E.麦克恩泰尔 | 申请（专利权）人： | 伊士曼化工公司 |
| 主分类号： | C11D7/34 | 分类号： | C11D7/34;C11D11/00;G03F7/42;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 韦欣华;李进 |
| 地址： | 美国田*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于从基底上去除有机物质的方法、相关装置和组合物，所述基底例如为电子器件基底，如微电子晶片或平板显示器。所提出的方法为将最小量的组合物作为涂层施加至无机基底并给予足够的热量，和通过冲洗完全地去除有机物质。所述的组合物和方法适用于从电子器件上去除，在某些情况下，完全地溶解正性和负性光致抗蚀剂以及热固性聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基底 去除 物质 方法 组合 | ||
【主权项】：
从基底上去除物质的单段方法，包括，（a）用剥离组合物涂覆所述物质至1000微米或更小的厚度；（b）加热所述基底至足以释放所述物质的温度和时间，和（c）用足以去除所述组合物和物质的量的冲洗剂冲洗所述基底。
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