[发明专利]安全元件有效
申请号: | 201180046969.7 | 申请日: | 2011-09-27 |
公开(公告)号: | CN103124641A | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | T·博勒;H·赖歇特;M·里歇特;I·茹尔明斯基;M·施尼佩尔 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | B41M3/14 | 分类号: | B41M3/14;B42D15/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘金辉;林柏楠 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明属于安全证件领域,更具体而言属于目的在于保护安全证件以防复制(非法复制)和伪造的安全元件领域。公开了一种具有在用光,尤其是UV光辐照之后以及在旋转和/或倾斜时改变其视觉外观的安全特征的安全元件。还公开了包含所述安全元件的安全证件以及生产所述安全元件的方法。 | ||
搜索关键词: | 安全 元件 | ||
【主权项】:
一种安全装置,包括:具有低折射率n低的介质或基材;具有高折射率n高的波导层,其包含发光材料;以及在所述波导层表面上或在所述介质或基材与所述波导层之间的界面处或在与所述波导层相距小于500nm,尤其是200nm,非常尤其为50nm的距离处的衍射微结构,其中所述具有低折射率n低的介质或基材与所述波导层之间的折射率之差为至少0.005,尤其是至少0.01,非常尤其为至少0.1;所述微结构周期(Λ)为100‑1500nm,尤其是100‑1000nm,非常尤其为100‑500nm;所述波导层的质量厚度(d)为30‑1000nm,尤其是50‑400nm,非常尤其为60‑200nm;以及微结构深度(t)为50‑1000nm,尤其是80‑600nm,非常尤其为100‑300nm。
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