[发明专利]氟系高分子电解质膜无效
| 申请号： | 201180047848.4 | 申请日： | 2011-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN103155251A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 山根三知代;三宅直人 | 申请（专利权）人： | 旭化成电子材料株式会社 |
| 主分类号： | H01M8/02 | 分类号： | H01M8/02;C08J9/42;C08L27/18;H01B1/06;H01M8/10 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;李洋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种耐久性优异的高分子电解质膜，其能够兼具发电特性和物理耐久性。本发明的高分子电解质膜是在微多孔膜的空隙中含有氟系高分子电解质组合物而成的高分子电解质膜，其中，所述微多孔膜的细孔分布在细孔径为0.3μm～5.0μm的范围具有分布中心，所述氟系高分子电解质组合物含有离子交换容量为0.5～3.0毫当量/g的氟系高分子电解质(A成分)。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子 电解 质膜 | ||
【主权项】：
一种高分子电解质膜，其是在微多孔膜的空隙中含有氟系高分子电解质而成的氟系高分子电解质膜，其特征在于，所述微多孔膜的细孔分布在细孔径为0.3μm～5.0μm的范围具有分布中心，所述高分子电解质组合物是离子交换容量为0.5毫当量/g～3.0毫当量/g的高分子电解质(A成分)。
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