[发明专利]有机硅的紫外线辐射交联有效
| 申请号： | 201180047859.2 | 申请日： | 2011-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN103140299A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | R·E·赖特;M·B·米特拉;J·塞思 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B05D3/04 | 分类号： | B05D3/04;B05D3/06 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈文平 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了交联官能化和非官能化有机硅的方法。所述方法包括将所述有机硅暴露于具有在惰性气氛中在240nm以下包括至少一个强度峰值的光谱的紫外线辐射。本发明还描述了通过所述方法制备的制品，其包括隔离衬片和粘合剂制品。 | ||
| 搜索关键词： | 有机硅 紫外线 辐射交联 | ||
【主权项】：
一种制备交联有机硅层的方法，包括：将包括一种或多种非丙烯酸酯化的聚硅氧烷材料的一层组合物涂覆到基底上，并将所述层暴露到具有在惰性气氛中在240nm以下包括至少一个强度峰值的光谱的紫外线辐射。
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