[发明专利]将测量光谱匹配至参考光谱以进行原位光学监测的技术无效

专利信息
申请号: 201180047978.8 申请日: 2011-08-04
公开(公告)号: CN103155110A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: X·胡;Z·王;H·Q·李;Z·朱;J·D·戴维;D·J·本韦格努;J·张;W-C·屠 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;H01L21/66
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆嘉;侯颖媖
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 控制抛光的方法包括存储具有多个参考光谱的图库、抛光基板、在抛光期间测量来自基板的光的序列光谱、利用除平方差总和之外的匹配技术为所述序列光谱中的每一个测量光谱寻找最佳匹配参考光谱以产生序列最佳匹配参考光谱、以及根据所述序列最佳匹配参考光谱确定抛光终点或对抛光速率的调节的至少之一。寻找最佳匹配参考光谱可包括对测量光谱与来自图库的多个参考光谱中的两个或更多个参考光谱的每一个参考光谱进行交叉相关,以及选择与测量光谱有最大相关性的参考光谱作为最佳匹配参考光谱。
搜索关键词: 测量 光谱 匹配 参考 进行 原位 光学 监测 技术
【主权项】:
一种控制抛光的方法,包含:存储具有多个参考光谱的图库;抛光基板;在抛光期间,测量来自所述基板的光的序列光谱;利用除平方差总和之外的匹配技术,为所述序列光谱中的每一个测量光谱寻找最佳匹配参考光谱,以产生序列最佳匹配参考光谱;以及根据所述序列最佳匹配参考光谱,确定抛光终点或对抛光速率的调节的至少之一。
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