[发明专利]将测量光谱匹配至参考光谱以进行原位光学监测的技术无效
申请号: | 201180047978.8 | 申请日: | 2011-08-04 |
公开(公告)号: | CN103155110A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | X·胡;Z·王;H·Q·李;Z·朱;J·D·戴维;D·J·本韦格努;J·张;W-C·屠 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;H01L21/66 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆嘉;侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 控制抛光的方法包括存储具有多个参考光谱的图库、抛光基板、在抛光期间测量来自基板的光的序列光谱、利用除平方差总和之外的匹配技术为所述序列光谱中的每一个测量光谱寻找最佳匹配参考光谱以产生序列最佳匹配参考光谱、以及根据所述序列最佳匹配参考光谱确定抛光终点或对抛光速率的调节的至少之一。寻找最佳匹配参考光谱可包括对测量光谱与来自图库的多个参考光谱中的两个或更多个参考光谱的每一个参考光谱进行交叉相关,以及选择与测量光谱有最大相关性的参考光谱作为最佳匹配参考光谱。 | ||
搜索关键词: | 测量 光谱 匹配 参考 进行 原位 光学 监测 技术 | ||
【主权项】:
一种控制抛光的方法,包含:存储具有多个参考光谱的图库;抛光基板;在抛光期间,测量来自所述基板的光的序列光谱;利用除平方差总和之外的匹配技术,为所述序列光谱中的每一个测量光谱寻找最佳匹配参考光谱,以产生序列最佳匹配参考光谱;以及根据所述序列最佳匹配参考光谱,确定抛光终点或对抛光速率的调节的至少之一。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司,未经应用材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180047978.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造