[发明专利]使用微透镜阵列的扫描曝光装置

摘要

扫描曝光装置通过多个微透镜阵列（2），将掩模（3）的曝光图案投影于衬底（1）上。此时，通过线性CCD相机检测衬底上的图像，将衬底上的第一层图案作为基准图案，检测掩模的曝光图案是否与该基准图案一致。不一致时，使微透镜阵列从平行于衬底的方向倾斜，调整由微透镜阵列形成的衬底上的曝光区域，使掩模的曝光图案与基准图案一致。由此，即使产生曝光图案与基准图案的偏移，也能在曝光中检测该偏移，防止曝光图案的错位，能够提高重叠曝光中的曝光图案的精度。

主权项

一种使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，具有：多个微透镜阵列，配置于应曝光衬底的上方，二维地配置有微透镜；支持衬底，能够倾斜地支持该微透镜阵列；驱动部件，相对于所述支持衬底倾动驱动所述各微透镜阵列；掩模，配置于该微透镜阵列的上方，形成有既定的曝光图案；曝光光源，对该掩模照射曝光光；移动装置，使所述微透镜阵列和所述衬底以及所述掩模相对地沿一个方向移动；图像检测部，检测所述衬底的图像；图像处理部，以该图像的检测信号为基础进行图像处理以得到形成于衬底上的基准图案；以及控制部，该控制部运算该基准图案与将要曝光的所述掩模的曝光图案之间的偏移，经由所述驱动部件使所述微透镜阵列倾动以消除所述基准图案与所述曝光图案的偏移，通过使所述多个微透镜阵列从平行于衬底的面的方向倾斜，从而调整衬底上的曝光位置，使曝光图案与所述基准图案一致。