[发明专利]穿孔石墨去离子或脱盐有效

专利信息
申请号: 201180049184.5 申请日: 2011-08-15
公开(公告)号: CN103153441A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 约翰·B·斯特森;乔纳森·莫克里奥;艾伦·罗森温克;彼得·V·拜德沃斯 申请(专利权)人: 洛克希德马丁公司
主分类号: B01D61/00 分类号: B01D61/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 余朦;杨莘
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 分离布置将水与氯、钠和可能的其它离子隔离。载有离子的水被应用至具有使水分子通过和使最小的相关离子不通过的孔洞的至少一个穿孔的石墨片。流过穿孔的石墨片的去离子的水被收集。未通过的离子可被清除。在其它实施方式中,载有离子的水被应用至具有阻塞氯离子的孔洞的第一穿孔的石墨片和具有阻塞钠离子的孔洞的第二穿孔的石墨片。积聚在第一穿孔的石墨片和第二穿孔的石墨片处的集中的氯和钠离子可分别被收集。
搜索关键词: 穿孔 石墨 离子 脱盐
【主权项】:
对携带无用离子的水进行去离子的方法,所述方法包括如下步骤:提供具有被选择为允许水分子通过并禁止所述无用离子中的被选择的一种离子通过的多个孔洞的第一石墨片以产生穿孔石墨片;对所述携带无用离子的水加压以产生加压的水;将所述加压的水施加至所述穿孔石墨片的第一表面,使得水分子优先于离子流动至所述穿孔石墨片的第二侧;以及从所述穿孔石墨片的第二侧收集所述水分子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于洛克希德马丁公司,未经洛克希德马丁公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180049184.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code