[发明专利]微分相位对比成像有效
| 申请号： | 201180050117.5 | 申请日： | 2011-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN103189739A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | E·勒斯尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01N23/20;G21K1/06;A61B6/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及微分相位对比成像，尤其涉及一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅、例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了更好地利用通过对象的X射线辐射，提供一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅（14），其具有第一子区域（26）的至少一个部分（24）和第二子区域（30）的至少一个部分（28）。所述第一子区域包括具有多个以第一光栅间距PG（38）周期性布置的条（34）和间隙（36）的光栅结构（54），其中，所述条被布置成使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度，并且其中，所述间隙是能透过X射线的。所述第二子区域是能透过X射线的，并且其中，所述第二子区域的至少一个部分在光栅中提供能透过X射线的孔径（40）。沿至少一个方向（42）以交替方式布置第一子区域和第二子区域的各部分。 | ||
| 搜索关键词： | 微分 相位 对比 成像 | ||
【主权项】：
一种用于进行X射线微分相位对比成像的衍射光栅（14，15），包括：‑第一子区域（26）的至少一个部分（24）；以及‑第二子区域（30）的至少一个部分（28）；其中，所述第一子区域包括具有多个以第一光栅间距PG1（38）周期性布置的条（34）和间隙（36）的光栅结构（54）；其中，所述条被布置成使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度，并且其中，所述间隙是能透过X射线的；其中，所述第二子区域是能透过X射线的，并且其中，所述第二子区域的所述至少一个部分在所述光栅中提供能透过X射线的孔径（40）；其中，沿至少一个方向（42）以交替方式布置所述第一子区域和第二子区域的各部分。
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