[发明专利]微分相位对比成像有效

专利信息
申请号: 201180050514.2 申请日: 2011-10-17
公开(公告)号: CN103168228A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: E·勒斯尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G01N23/20;G21K1/06;A61B6/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及微分相位对比成像,尤其是用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅,例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了提供增强的基于相位梯度的图像数据,为用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅(14,15)提供第一子区域(23),其包括第一光栅结构(26)的至少一个部分(24)和第二光栅结构(30)的至少一个部分(28)。所述第一光栅结构包括周期性布置的具有第一光栅取向GO1(37)的多个条(34)和间隙(36);其中布置所述条使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,且其中所述间隙能透过X射线。第二光栅结构包括周期性布置的具有第二光栅取向GO2(44)的多个条(40)和间隙(42),其中布置条,使得它们改变X射线的相位和/或幅度,且其中间隙能透过X射线。所述第一光栅取向GO1与所述第二光栅取向GO2不同。于是,可以针对不同方向采集基于相位梯度的图像信息,无需在例如采集步骤之间旋转或绕枢轴转动任何相应的光栅。
搜索关键词: 微分 相位 对比 成像
【主权项】:
一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅(14,15),包括第一子区域(23),所述第一子区域具有:‑第一光栅结构(26)的至少一个部分(24);以及‑第二光栅结构(30)的至少一个部分(28);其中,所述第一光栅结构包括周期性布置的具有第一光栅取向GO1(37)的多个条(34)和间隙(36);其中,布置所述条使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,并且其中,所述间隙能透过X射线;其中,所述第二光栅结构包括周期性布置的具有第二光栅取向GO2(44)的多个条(40)和间隙(42);其中,布置所述条使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,并且其中,所述间隙能透过X射线;并且其中,所述第一光栅取向GO1与所述第二光栅取向GO2不同。
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