[发明专利]真空处理装置有效
申请号: | 201180050821.0 | 申请日: | 2011-10-14 |
公开(公告)号: | CN103180484A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 藤本信也;林信博;广野贵启;多田勋 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人: | 齐永红 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种真空成膜装置,为便于运输等而将真空处理室和真空辅助室分开设置,易于在安装现场组装且可维护性好。相连设置有真空处理室(1)、向真空处理室传送片状基材的上游侧的真空辅助室(2)以及卷取回收片状基材的下游侧的真空辅助室(3),所述真空处理室(1)具有卷有长的片状基材(S)的一部分的滚筒(15)、配置在该滚筒的下方且从上游侧传送来片状基材的多个辊(16c)、以及处理单元(4)。上述真空处理室及真空辅助室构成为在设置于地面的架台上载置基板,将下面开口的箱体从其下面侧设置在该基板上。多个辊一体构成为辊单元,设置为在真空处理室内可在滚筒的下方空间内自由取放。 | ||
搜索关键词: | 真空 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种真空处理装置,其特征在于:具有:真空处理室,其具有滚筒,所述滚筒卷有长的片状基材的一部分;多个辊,其配置在该滚筒的下方,将片状基材从上游侧导引向该滚筒,并且将所述片状基材从该滚筒送到下游侧;以及至少一个处理单元,其设置在这些辊的上方且在滚筒的周围;上游侧的真空辅助室,其具有送料辊,设与滚筒的轴线方向正交的方向为相连设置方向,所述送料辊经连接管与真空处理室的上游侧相连设置,其上卷绕有片状基材;以及至少一个引导辊,其使从该送料辊送出的片状基材通过连接管内送到上述真空处理室内;以及下游侧的真空辅助室,其具有卷料辊,所述卷料辊经连接管与真空处理室的下游侧相连设置,其卷取片状基材;以及至少一个辊,其将从上述真空处理室经连接管内送来的片状基材导引到卷料辊;上述真空处理室构成为将基板载置在设置于地面的架台上,将下面开口的第一箱体从该下面侧设置在该基板上,在该第一箱体的所述轴线一侧面上形成开口部,可自由开合地装设有遮蔽该开口部的开关门,这些多个辊与在轴线方向上隔规定间隔配置的一对支撑体分别可转动地桥接构成为一体式的辊单元,所述真空处理室具有可使该辊单元在轴线方向上移动的第一引导装置;上述上游侧及下游侧的两真空辅助室构成为将基板载置在设置于地面上的架台上,将下面开口的第二箱体及第三箱体从该下面侧设置在该基板上。
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