[发明专利]强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201180051299.8 | 申请日： | 2011-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103180481A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 荒川笃俊;池田祐希 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/14;G11B5/851;H01F10/16;H01F41/18 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种强磁性材料溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、Pt为5摩尔%以上、余量为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶具有：金属基质(A)、以及在所述(A)中的含有30摩尔%以上Ru的Co-Ru合金相(B)和与所述相(B)不同的Co或以Co作为主要成分的金属或合金相(C)。本发明目的在于得到使漏磁通提高、并且通过磁控溅射装置能够稳定放电的强磁性材料溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性材料 溅射 | ||
【主权项】：
一种强磁性材料溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、Ru为0.5摩尔%以上且30摩尔%以下、余量为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶具有：金属基质(A)、以及在所述(A)中的含有30摩尔%以上Ru的Co‑Ru合金相(B)和与所述相(B)不同的Co或以Co作为主要成分的金属或合金相(C)。
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