[发明专利]高纯度铝涂层硬阳极化在审
| 申请号： | 201180051653.7 | 申请日： | 2011-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN103189963A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | A·H·乌耶;R·M·科克 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/205 | 分类号： | H01L21/205;H01L21/3065;H05H1/46 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明关于一种用于等离子体处理腔室设备中的腔室部件或一种用于制造所述腔室部件的方法。所述腔室部件包括经抛光的高纯度铝涂层及硬阳极化涂层，所述硬阳极化涂层对等离子体处理环境具有耐受性。 | ||
| 搜索关键词： | 纯度 涂层 阳极 | ||
【主权项】：
一种用于等离子体处理设备中的腔室部件，所述腔室部件包含：铝主体，所述铝主体具有安置于所述主体的外表面上的经抛光的铝涂层，以及安置于所述铝涂层上的硬阳极化涂层，其中所述经抛光的铝涂层抛光至8Ra或更光滑的光洁度。
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