[发明专利]用于流动型颗粒分析仪的双反馈真空流动技术

摘要

本发明涉及一种用于流动型颗粒分析仪的真空驱动流动系统。该系统包括真空泵，该真空泵在流动槽下游产生压力降，该压力降将包裹流体和样本流体抽过流动槽。可变阻力流动阻滞器构造成用以控制样本流体流量与包裹流体流量的比率。双反馈回路用来自动地控制系统，一个双反馈回路构造成用以响应跨过流动槽的压力降-该压力降称作动态压降，而调节真空泵功率；第二个双反馈回路构造成用以响应由真空泵相对于周围压力产生的压力降-该压力降称作静态压降，而调节真空泵功率。本发明能够在保持通过流动槽的恒定总流体流量的同时调节样本流体流量，并且还能够使系统暂停，而真空度不会有显著波动。

主权项

一种用于流动型颗粒分析仪的流动系统，所述流动系统包括：a）流动槽，所述流动槽具有样本流体进口端口，包裹流体进口端口，出口端口，以及比色皿，其中，所述比色皿包含比色皿通道，该比色皿通道具有输入端部和输出端部，其中，所述输入端部与所述样本进口端口以及所述包裹流体进口端口流体连通，所述输出端部与所述出口端口流体连通；b）样本流体管线，所述样本流体管线与所述样本进口端口流体连通，用来从样本流体容器提供包含颗粒的样本流体；c）包裹流体管线，所述包裹流体管线与所述包裹流体进口端口流体连通，用来从包裹流体储器提供包裹流体；d）出口管线，所述出口管线与所述出口端口流体连通；e）真空泵，所述真空泵具有可控制功率级，与所述出口管线真空连通，并构造成用以在所述出口管线中抽吸真空，由此将所述样本流体和包裹流体抽过所述流动槽；f）第一传感器，所述第一传感器构造成用以测量从包裹流体进口端口到所述比色皿出口端口的压降；g）第一控制反馈回路，所述第一控制反馈回路构造成用以响应由所述第一传感器测量的压降而调节所述真空泵的功率；h）第二传感器，所述第二传感器构造成用以测量从所述比色皿出口端口到大气压力的压降；i）第二控制反馈回路，所述第二控制反馈回路构造成用以响应由所述第二传感器测量的压降而调节所述真空泵的功率；其中，所述样本流体管线或所述包裹流体管线包括可变阻力流动阻滞器。