[发明专利]微光刻曝光设备的投射物镜有效
| 申请号： | 201180053146.7 | 申请日： | 2011-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN103189800A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | H.恩基什;S.米伦德;H-J.曼;R.弗里曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种设计用于EUV的微光刻投射曝光设备的投射物镜，将在投射曝光设备的操作中被照明的物平面成像于像平面中，其中该投射物镜具有至少一个包含多个独立的反射镜区段(161-163；261-266、281-284；311、312；411、412；510-540)的反射镜区段布置(160、260、280、310、410、500)；及其中与同一反射镜区段布置的反射镜区段关联的是彼此不同且分别被提供用于将物平面(OP)成像于像平面(IP)中的局部光束路径，其中所述局部光束路径在像平面(IP)中叠加，及其中在像平面(IP)中的同一点叠加的至少两个局部光束由该同一反射镜区段布置的不同反射镜区段反射。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 曝光 设备 投射 物镜 | ||
【主权项】：
一种设计用于EUV的微光刻投射曝光设备的投射物镜，用于将在所述投射曝光设备的操作中被照明的物平面成像于像平面中，其中，所述投射物镜具有至少一个反射镜区段布置(160、260、280、310、410、500)，其包含多个独立的反射镜区段(161‑163；261‑266、281‑284；311、312；411、412；510‑540)；及其中，与同一反射镜区段布置的反射镜区段关联的是彼此不同且分别被提供用于将所述物平面(OP)成像于所述像平面(IP)中的局部光束路径，其中所述局部光束路径在所述像平面(IP)中叠加，及其中在所述像平面(IP)中的同一点叠加的至少两个局部光束由所述同一反射镜区段布置的不同反射镜区段反射。
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