[发明专利]制备含氧化铟的层的方法有效
申请号: | 201180054427.4 | 申请日: | 2011-10-26 |
公开(公告)号: | CN103201409A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | J.施泰格;D.V.范;H.蒂姆;A.默库洛夫;A.霍佩 | 申请(专利权)人: | 赢创德固赛有限公司 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 石克虎;林森 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及生产包含氧化铟的层的液相方法,在其中将可以从含有至少一种氧化铟前体和至少一种溶剂和/或分散介质的混合物生产的涂料组合物以点a)-d)的次序,其中a)施涂到基材上,和b)将该施涂到基材上的组合物用电磁辐射进行照射,和c)任选地干燥,和d)热转化成包含氧化铟的层,其中所述氧化铟前体是通式InX(OR)2的铟卤素醇盐,其中R是烷基和/或烷氧基烷基,X是F、Cl、Br或I,使用具有显著含量的在170-210nm和250-258nm范围的辐射的电磁辐射实施照射。涉及可通过该方法制备的含氧化铟的层和其用途。 | ||
搜索关键词: | 制备 氧化 方法 | ||
【主权项】:
制备包含氧化铟的层的液相方法,在其中将能够从含有至少一种氧化铟前体和至少一种溶剂和/或分散介质的混合物制备的涂料组合物以点a)‑d)的次序a) 施涂到基材上,b) 将该施涂到基材上的组合物用电磁辐射进行照射,c) 任选地干燥,和d) 热转化成包含氧化铟的层,其特征在于‑ 所述氧化铟前体是通式InX(OR)2的铟卤素醇盐,其中R是烷基和/或烷氧基烷基,X是F、Cl、Br或I,‑ 使用具有显著含量的在170‑210nm和250‑258nm范围的辐射的电磁辐射实施照射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赢创德固赛有限公司,未经赢创德固赛有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180054427.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理