[发明专利]用于制造电子器件的方法和电子器件有效
申请号: | 201180054917.4 | 申请日: | 2011-07-28 |
公开(公告)号: | CN103210519A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 迪尔克·贝克;埃尔温·兰;蒂洛·罗伊施 | 申请(专利权)人: | 欧司朗光电半导体有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张春水;田军锋 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于制造电子器件(240)的方法(100),所述方法能够具有:借助于原子层沉积法将电极生长层(226)施加(102)在层结构上或施加在层结构上方;并且将电极(232)施加(104)在电极生长层(226)上。 | ||
搜索关键词: | 用于 制造 电子器件 方法 | ||
【主权项】:
用于制造电子器件(240)的方法(100),其中所述方法具有:·借助于原子层沉积法将电极生长层(226)施加(102)在层结构上或施加在层结构上方;并且·将电极(232)施加(104)在所述电极生长层(226)上。
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