[发明专利]接近式曝光装置以及接近式曝光方法

摘要

本发明涉及一种照明光学系统（70），其具有：光源部（73）；复眼透镜（74），其由多个透镜单元组成的蝇眼透镜构成，对来自光源部（73）的光的强度进行均衡化处理；和遮光部件（78），其能够移动，设置在复眼透镜（74）的入射面侧，可变地设定为预定的准直半角的方式，对入射到多个透镜单元的任一单元中的光进行遮光。由此，能够可变设定准直半角，得到具有期望线宽的高分辨率图案。

主权项

一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：基板保持部，所述基板保持部用于把持基板；掩模保持部，所述掩模保持部与所述基板对置并把持掩模；和照明光学系统，所述照明光学系统用于向所述掩模照射图案曝光用光，在使所述基板和所述掩模接近为具有预定间隙的状态下，借助所述掩模向所述基板照射来自所述照明光学系统的光，将所述掩模的图案转印到所述基板，其中，所述照明光学系统具有准直半角调节机构，用于将准直半角调节为与转印到所述基板的图案的期望线宽相对应的预定的准直半角。