[发明专利]气体阻隔性膜、气体阻隔性膜的制造方法及电子器件无效
| 申请号： | 201180058352.7 | 申请日： | 2011-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN103237657A | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 本田诚;竹村千代子 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供具有高阻隔性能，耐弯曲性、平滑性以及切断加工适应性优异的气体阻隔性膜、其制造方法和使用其的电子器件。所述气体阻隔性膜的特征在于，在基材的至少一方的面侧具有气体阻隔层单元，该气体阻隔层单元具有用化学蒸镀法形成的第1阻隔层和对在该第1阻隔层上涂布硅化合物而形成的涂膜实施了改性处理而成的第2阻隔层，且在该第1阻隔层和该基材之间具有中间层。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 制造 方法 电子器件 | ||
【主权项】：
一种气体阻隔性膜，其在基材的至少一方的面侧具有气体阻隔层单元，该气体阻隔层单元具有用化学蒸镀法形成了的第1阻隔层和对在该第1阻隔层上涂布硅化合物而形成了的涂膜实施了改性处理的第2阻隔层，且在该第1阻隔层和该基材之间具有中间层。
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