[发明专利]从羟胺溶液中去除肼的工艺

摘要

本发明涉及通过用清除剂处理含肼的羟胺游离碱来降低或消除所述羟胺游离碱中的肼的量的工艺和因此获得的羟胺游离碱，以及其用于制造含氧肟酸化聚合物的微分散液以供用作拜耳工艺(Bayer process)中的絮凝剂的用途。

主权项

1.一种用于降低含肼的羟胺游离碱中的肼的量的工艺，所述方法包含用选自式I和/或式II化合物的清除剂处理所述羟胺游离碱其中X¹和X²各自个别地选自：H、OH、NR”₂、OR”’、SH、卤化物或任选地经取代的烃基，其限制条件为X¹和X²两者不都为OH基团，其中每一个R”是独立地选自：H或任选地经取代的烃基；R”’是任选地经取代的烃基，其中两个R”’基团还可以形成任选地经取代的环系统；或R”’为碱金属或NR^V₄，其中每一个R^V是独立地选自：H或任选地经取代的烃基；X³是选自：O、NR’、S或PR’，其中R’是选自：H、OH、碱金属、NR^IV₂或烷基，其中每一个R^IV是独立地选自：H或任选地经取代的烃基；R是选自：CR¹R²，其中R¹和R²各自独立地选自：H或任选地经取代的烃基，其中R¹与R²还可以一起形成任选地经取代的环；R³C＝CR⁴，其中R³与R⁴一起形成任选地经取代的环；以及R⁵R⁶C-CR⁷R⁸，其中R⁵与R⁷一起形成任选地经取代的环，且其中R⁶和R⁸各自独立地选自：H或任选地经取代的烃基，其限制条件为R¹可以与X¹形成环系统。