[发明专利]用于产生标准光平面的锥透镜系统/盖罩系统的优化有效
| 申请号： | 201180059910.1 | 申请日： | 2011-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN103250027B | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | W.比特纳;T.齐默曼 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 主分类号： | G01C15/00 | 分类号： | G01C15/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 宣力伟,杨国治 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及对用于沿例如水平方向或正交方向发射规范光平面或者标准光平面的光标记装置的改善。尤其应能够通过根据本发明的光标记装置产生连续的标准光平面，其中所述标准光平面具有比通常产生的标准光平面更高的精度。此外本发明涉及一种用于借助于光标记装置产生平面的标准光平面的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 产生 标准 平面 透镜 系统 优化 | ||
【主权项】：
一种用于产生标准光平面（410）的光标记装置，所述光标记装置至少具有：一个具有用于产生第一光束（401）的光源（100）以及用于由所述第一光束（401）产生第一光平面（406）的、能够围绕第一旋转轴线和第二旋转轴线倾斜的光学偏转元件（200）的光学单元（100、200）；和一个用于由所述第一光平面（406）产生所述标准光平面（410）的盖罩（300）；其特征在于，所述盖罩（300）具有窗（303），并且所述标准光平面（410）与所述光学偏转元件基于盖罩的相对位置无关地位于平面中。
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