[发明专利]具有耐熔中间层和VPS焦点轨迹的阳极盘元件有效

专利信息
申请号: 201180060230.1 申请日: 2011-12-14
公开(公告)号: CN103370764A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: K·C·克拉夫特;M-W·P·徐;M·何;G·J·卡尔森 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: H01J35/10 分类号: H01J35/10;H01J9/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 通过建立诸如碳加强的碳复合材料之类的碳衬底或者其它陶瓷衬底(50)来形成阳极(30)。在陶瓷衬底上电镀可延展耐熔金属,以便至少在焦点轨迹部分(36)上形成耐熔金属碳化物层(52)以及可延展耐熔金属层(54)。在可延展耐熔金属层上真空等离子体喷涂高-Z耐熔金属,以便至少在所述焦点轨迹部分上形成真空等离子体喷涂的高-Z耐熔金属层(56)。
搜索关键词: 具有 中间层 vps 焦点 轨迹 阳极 元件
【主权项】:
一种阳极(30),包括:碳或陶瓷衬底(50);耐熔金属碳化物层(52),至少覆盖所述衬底的焦点轨迹部分(36);可延展耐熔金属层(54),至少在所述焦点轨迹部分上覆盖所述碳化物层(52);以及真空等离子体喷涂的高‑Z耐熔金属层(56),至少在所述焦点轨迹部分上覆盖所述可延展耐熔金属层(54)。
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