[发明专利]利用电子束技术产生臭氧和等离子体无效
申请号: | 201180060362.4 | 申请日: | 2011-12-16 |
公开(公告)号: | CN103262220A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 卡维·巴赫塔里 | 申请(专利权)人: | 日立造船株式会社 |
主分类号: | H01L21/306 | 分类号: | H01L21/306 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 陈桂香;褚海英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明除了其它方面之外提出了用于提供臭氧发生器或等离子体发生器的系统和方法,所述臭氧发生器或等离子体发生器在与反应腔室分隔开的电子发生腔室中产生电场。所述电子发生腔室中的电子束发射器被配置用来发出电子束,且被电子可渗透的阻挡件与所述反应腔室分隔开,所述阻挡件提供了所述电子束穿过的窗口。电子在所述电子发生腔室中被加速到所需的能量并穿过所述阻挡件而被传输至所述反应腔室,输入气体源将输入气体引入至所述反应腔室中。输入气体可以在所述反应腔室内与所述电子束反应以形成含有等离子体或含有臭氧浓度的输出气体,并且该输出气体从所述反应腔室传输至晶圆处理腔室。 | ||
搜索关键词: | 利用 电子束 技术 产生 臭氧 等离子体 | ||
【主权项】:
一种用于产生等离子体或臭氧的系统,其包括:电子束发射器,所述电子束发射器具有电子发生腔室,所述电子束发射器被设置用来发出电子束,所述电子束发射器还具有位于所述电子发生腔室的一端处的阻挡件,所述阻挡件包括电子可渗透材料以提供所述电子束穿过的窗口,且所述阻挡件密封所述电子发生腔室以防止物质从所述电子发生腔室中逸出,并且所述阻挡件还维持差压和真空度;反应腔室,所述反应腔室被布置成与所述阻挡件相邻,所述反应腔室用来接收所述电子束且具有允许气体从所述反应腔室中流过的通道;以及输入气体源,所述输入气体源用于将输入气体引入到所述反应腔室中,使得所述输入气体能够在所述反应腔室内与所述电子束反应从而形成输出气体,所述输出气体包含等离子体形式或臭氧浓度形式的活性气体,且所述输出气体从所述反应腔室传输至晶圆处理腔室。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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