[发明专利]形成硬盘用被膜的组合物有效
| 申请号： | 201180061314.7 | 申请日： | 2011-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN103262165A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 加藤拓;首藤圭介;小林淳平;铃木正睦 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;C08F8/00;C08F12/36;C08F290/12;G11B5/65;G11B5/855 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供形成硬盘用平坦化膜的组合物。作为解决本发明课题的方法涉及一种形成硬盘用平坦化膜的组合物，其包含疏水性被覆材，所述疏水性被覆材由选自(A1)、(A2)、(A3)、(a1)、(a2)和(a3)中的聚合物或聚合物与化合物的组合构成，并且具有光聚合性基和芳香族基，所述(A1)为包含芳香族基，具有300～5000的分子量，在大气压下常温下为液体的聚合物，所述(A2)为包含至少2个光聚合性基，具有300～5000的分子量，在大气压下常温下为液体的聚合物，所述(A3)为包含芳香族基和至少2个光聚合性基，具有300～5000的分子量，在大气压下常温下为液体的聚合物，所述(a1)为包含芳香族基，具有100～1000的分子量，在大气压下常温下为液体的化合物，所述(a2)为包含至少2个光聚合性基，具有100～1000的分子量，在大气压下常温下为液体的化合物，所述(a3)为包含芳香族基和至少2个光聚合性基，具有100～1000的分子量，在大气压下常温下为液体的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 硬盘 用被膜 组合 | ||
【主权项】：
一种形成硬盘用平坦化膜的组合物，其包含疏水性被覆材，所述疏水性被覆材由选自(A1)、(A2)、(A3)、(a1)、(a2)和(a3)中的至少1种聚合物或至少1种聚合物与至少1种化合物的组合构成，并且具有光聚合性基和芳香族基，所述(A1)为包含芳香族基，具有300～5000的分子量，在大气压下常温下为液体的聚合物，所述(A2)为包含至少2个光聚合性基，具有300～5000的分子量，在大气压下常温下为液体的聚合物，所述(A3)为包含芳香族基和至少2个光聚合性基，具有300～5000的分子量，在大气压下常温下为液体的聚合物，所述(a1)为包含芳香族基，具有100～1000的分子量，在大气压下常温下为液体的化合物，所述(a2)为包含至少2个光聚合性基，具有100～1000的分子量，在大气压下常温下为液体的化合物，所述(a3)为包含芳香族基和至少2个光聚合性基，具有100～1000的分子量，在大气压下常温下为液体的化合物。
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