[发明专利]使用激光束刻蚀微电膜的方法无效

专利信息
申请号: 201180062005.1 申请日: 2011-12-08
公开(公告)号: CN103270615A 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 安妮-洛雷·塞勒;穆罕默德·邦瓦迪赫 申请(专利权)人: 原子能与替代能源委员会
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/10
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 于未茗;宋志强
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种使用具有预定波长的激光束来刻蚀第一材料的层(14)的区域(16)的方法,所述区域(16)被沉积在至少两种第二材料(10、12)的表面处。该方法包括:在所述第一材料的层(14)上沉积第三材料的层(18),所述第一材料和所述第三材料在施加所述激光束时具有的化学亲和力大于所述施加期间在所述第一材料与所述至少两种第二材料中每种材料之间的化学亲和力;以及使用使所述区域(16)分离的所述激光束的注量,向所述第三材料的层(18)的垂直地位于所述第一材料的层(14)的区域16上方的自由表面区域施加所述激光束。
搜索关键词: 使用 激光束 刻蚀 微电膜 方法
【主权项】:
一种使用激光束进行刻蚀的方法,所述激光束具有预定波长,所述方法刻蚀第一材料的层(14)的区域(16),所述区域(16)被沉积在至少两种第二材料(10、12)的表面处,其特征在于,该方法包括:在所述第一材料的层(14)上沉积第三材料的层(18),所述第一材料和所述第三材料在施加所述激光束时具有的化学亲和力大于所述施加期间在所述第一材料与所述至少两种第二材料中每种材料之间的化学亲和力;以及使用使所述区域(16)分离的所述激光束的注量,向所述第三材料的层(18)的垂直地位于所述第一材料的层(14)的区域(16)上方的自由表面区域施加所述激光束。
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