[发明专利]气闸和带有气闸的涂覆装置有效
申请号: | 201180062220.1 | 申请日: | 2011-10-20 |
公开(公告)号: | CN103370442A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 戴维·波卡扎;斯蒂芬·雷伯;马丁·阿诺德;诺伯特·希林格 | 申请(专利权)人: | 弗劳恩霍弗应用技术研究院 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/54;C23C16/455 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 杨黎峰 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于分离两个气室的气闸,其使得可以以最小的空间消耗在不接触产品/离析物/输送系统的情况下实现气体分离。根据本发明的气闸的特征在于,在气闸的流动通道中存在至少一个用于操纵流动的器件。本发明同样涉及一种涂覆装置,其包括根据本发明的气闸。此外,给出了所公开的气闸的使用可能性。 | ||
搜索关键词: | 气闸 带有 装置 | ||
【主权项】:
一种用于分离两个气室(G1、G2)的气闸(I),其包括:a)至少一个流入体(K),所述流入体(K)具有至少一个用于气体的流入通道(H),所述流入通道(H)通入所述流入体(K)的第一侧中,b)以与所述至少一个流入体(K)的该第一侧成间距的方式布置的壁(A),其中,在所述壁(A)和所述至少一个流入体(K)之间形成与所述流入通道(H)流连接的间隙(B),c)至少两个用于气体的流出孔(i1、i2),其与所述间隙(B)流连接,其特征在于,在所述限制所述至少一个流入体(K)的第一侧中和/或在所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧中存在至少一个用于在所述间隙(B)中产生涡流的器件。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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