[发明专利]使用双释放层的功能纳米颗粒的纳米压印光刻形成无效
| 申请号： | 201180062449.5 | 申请日： | 2011-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN103282303A | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | V·辛格;F·Y·徐;S·V·斯里尼瓦桑 | 申请（专利权）人： | 分子制模股份有限公司;得克萨斯州大学系统董事会 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82B1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张东梅 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 功能纳米颗粒可使用至少一个纳米压印光刻步骤形成。在一个实施例中，可使用压印光刻工艺将牺牲材料图案化在多层基底上，该多层基底包括在可移除层之间的一个或多个功能层。该功能层中的至少一个层包括功能材料，诸如制药复合物或成像剂。该图案可被进一步蚀刻到该多层基底中。该功能材料的至少一部分随后可被移除以提供露出柱体的冠表面。移除该可移除层将该柱体从该图案化表面释放以形成功能纳米颗粒，诸如药物或成像剂载体。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 释放 功能 纳米 颗粒 压印 光刻 形成 | ||
【主权项】：
一种用于形成纳米颗粒的压印光刻方法，包括：形成多层基底，所述多层基底包括基础层、结合于所述基础层的第一可移除层、结合于所述第一可移除层的一个或多个功能层；以及结合于所述功能层之一的第二可移除层，其中所述一个或多个功能层中的至少一个层包含功能材料；在压印光刻工艺中在所述多层基底的表面上形成图案化层，所述图案化层包括多个凸起和凹陷；在一个或多个蚀刻工艺中将所述图案化层的特征转移到所述多层基底中，以形成从所述基础层延伸的多个多层柱体；用溶剂溶解所述第一和第二可移除层来将包含所述一个或多个功能层的柱体从所述基础层分离，所分离的柱体限定纳米颗粒。
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