[发明专利]光反射基板无效
申请号: | 201180062875.9 | 申请日: | 2011-12-21 |
公开(公告)号: | CN103270199A | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 堀田吉则;畠中优介 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C25D11/16 | 分类号: | C25D11/16;G02B5/08;H01L33/60 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 金仙华 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于,提供显示出高反射率、并且可以获得反射率的各向异性小、各向同性优异的发光的光反射基板、以及使用了它的发光元件。本发明的光反射基板是具备铝基板、和其上的铝的阳极氧化皮膜的光反射基板,所述阳极氧化皮膜表面的第一方向的表面粗糙度Ra1、和与所述第一方向正交的第二方向的表面粗糙度Ra2的比(其中,以Ra1及Ra2中的更大的值的一方作为分母,以值小的一方作为分子。而且,在Ra1及Ra2为相同值的情况下,无论哪一个为分母都可以。)为0.4~1.0,Ra1及Ra2分别为0.1~0.4μm。 | ||
搜索关键词: | 反射 | ||
【主权项】:
一种光反射基板,其特征在于,具备铝基板和设于该铝基板上的铝的阳极氧化皮膜,所述阳极氧化皮膜表面的第一方向的表面粗糙度Ra1、和与所述第一方向正交的第二方向的表面粗糙度Ra2的比为0.4~1.0,其中,以Ra1及Ra2中的更大的值的一方作为分母,以值小的一方作为分子,而且,在Ra1及Ra2为相同值的情况下,无论哪一个为分母都可以,Ra1及Ra2分别为0.1~0.4μm。
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